2015年,严涛南被问到,如果阿斯麦正在开发新EUV光刻机不起作用,会发生什。在过去25年里,严涛南直致力于光刻技术前沿研究。1991年,严涛南刚从麻省理工学院毕业便被TI聘用,在那里维修GCA在破产前生产最后台光刻机。20世纪90年代末,当使用193纳米波长光深紫外(DUV)光刻机上线时,严涛南加入台积电。近20年来,该行业直依靠这些工具来制造越来越小晶体管,使用系列光学技巧,比如通过水或多层掩模多次曝光,使193纳米光波能够形成尺寸小部分,这些技巧让摩尔定律得以延续。因为芯片行业在20世纪90年代末通过对3DFinFET早期研究已将晶体管从180纳米节点缩减。到2015年左右,这些研究成果已准备好进行大规模生产。
严涛南,《为大批量制造开发EUV光刻技术——个人旅程》(DevelopingEUVLithographyforHighVolumeManufacturing—APersonalJourney),《IEEE技术简报》(IEEETechnicalBriefs),
张忠谋在半导体行业对EUV光刻机下赌注比其他任何人都大。台积电光刻团队在EUV光刻机是否适合大规模生产问题上存在分歧,但负责台积电研发蒋尚义坚信,EUV光刻机是唯前进之路。说话温和蒋尚义,因流制造技术而广受赞誉。蒋尚义出生于中国重庆,和张忠谋样,他家人在第二次世界大战期间逃离日占区。蒋尚义在中国台湾长大,后来在斯坦福大学学习电气工程,并在得克萨斯州TI和硅谷惠普工作。1997年,当台积电突然发出工作邀请和巨额签约奖金时,蒋尚义回到台湾,帮助台积电发展。2006年,蒋尚义试图在加利福尼亚州退休
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