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39 EUV光刻机(3 / 7)

43/en/II-VI-Incorporated-Expands-Manufacturing-Capacity-of-Diamond-Windows-for-TRUMPF-High-Power-CO2-Lasers-in-EUV-Lithography.html"target="_blank">https://www.globenewswire.com/newsrelease/2018/12/19/1669962/11543/en/II-VI-Incorporated-Expands-Manufacturing-Capacity-of-Diamond-Windows-for-TRUMPF-High-Power-CO2-Lasers-in-EUV-Lithography.html。每步都需要创新。激光室中特殊气体必须保持恒定密度。锡滴本身能够反射光,反射光有可能进入激光系统形成干扰。为防止这种情况出现,激光系统需要特殊光学部件。通快需要工业钻石来提供激光离开腔室“窗口”,必须与合作伙伴合作开发新超纯钻石。通快花十年时间来应对这些挑战,生产出功率和可靠性都足够激光器。每台光源需要整整457329个部件。

在西盟和通快找到种方法来轰击锡并使其发出足够强EUV后,下步是制作反射镜,收集光并将其指向硅芯片。制造世界上最先进光学系统德国公司蔡司自珀金埃尔默和GCA成立以来,就为光刻系统制造反射镜和透镜。但过去使用光学部件与EUV所需光学部件之间差异,大约与莱思罗普灯泡和西盟锡滴喷射系统之间差异样巨大。

C.蒙特卡姆(C.Montcalm),《极紫外线光刻多层反射涂层》(MultilayerRelectiveCoatingsforExtreme-UltravioletLithography),能源部科学技术信息办公室,1998年3月10日,https://www.osti.gov/servlets/purl/310916。《彼得·库兹博士访谈:“击中月球上高尔夫球”》(InterviewwithDr.PeterKurz:“HittingaGolfBallontheMoon”),《光子学世界》(WorldofPhotonics),

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