此举瞬间激起千层浪，全球各界媒体报道不休，半导体发烧友热闹得跟过年
样纷纷发表
“雷客，你调整下光路结构。”
“好。”雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果计算查找表修正光与图案。
盛明安匍匐在桌案，设计市场需求
激光光源，就目前技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。
驱动光源产生碎屑数量，光谱纯度，每提高个技术节点消耗功率和产能……其实日前最先进euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个问题。
可盛明安不清楚。
当然，反射镜不对华出口。
盛明安：“不用担忧反射镜能不能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反射镜在光收集和转化率这单元里，能够被如何利用到极致。”
“数据、模型，不管失败成功，统统记录下来。”
盛明安语速打机关枪似，斩钉截铁、不容置喙，仿佛难度高到爆表光源系统在他眼里层次分明、井然有序，所有技术难点都可以被轻松解决。
他胸有成竹，心有沟壑。
巨大消耗，最直观例子，台euv机器输出功率两百瓦左右，工作天，耗电三万度。
光线利用率不到2%已经是优化其他性能所能够得到最佳数据，决定该性能优化决定性关键就是反射镜精度。
“精度必须以皮秒来计算。”
换句话说，光刻机所需反射镜精度必须打磨到万亿分之米。
盛明安：“用硅和钼反复镀膜，直到光线利用率达到国际标准。”
他虽不愿用前世记忆盗窃他人成果提前制造出国产光刻机，可前世是他完美解决euv产能低问题，因此习惯性顺手将这难题归入待解决列表之。
以至于后来举攻破该技术节点实现反超asml目标，实属意料之外。
***
15年5月份左右，国际半导体发生
件大事。
asml官网对外发布突破光刻机量产瓶颈，正式对外售出可量产14nm极紫外光刻机！
他不必开口安慰，只要用平淡轻松口气下达每道指令就能安定实验室每个人退怯、不自信心。
“杜颂，打开你modelica先进行初步超精密激光器建模仿真。”
modelica是款可实现复杂物理系统仿真建模计算机语言软件，可用于光刻机某些超精密部件仿真建模。
杜颂：“已在创建。”
他领着自己小组成员低头忙碌。
当下有人反驳：“都是纳米级镀膜，反复镀膜也会影响精度，工艺太难！”
难度多大？
最浅显易懂比喻便是将面直径不超过四十厘米反射镜放大至覆盖地面，其平面起伏不能超过根头发直径。
而光刻机所需反射镜多达四五十层，平面精度层比层要求更平整。
全球只有德国蔡司这家传承三代以上企业才造得出这种反射镜。
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