更何况asml
核心技术分别掌握在不同国家企业，而这些企业传承四五十年甚至上百年，无论是核心技术保密还是专利保护，只有他们坑人份。
asml高管这
说，莫伦科夫脸上血色全无，讪讪闭嘴，但心情直掉谷底。
前三排受邀嘉宾若有所思，有人侧身询问天野浩：“天野先生，您听明白
吗？”
天野浩点头：“他说个基础轮廓，大方向没有出错。如果可以，
希望能够
盛明安不慌不忙，对着话筒再问遍：“在场还有没有问题？”
“——”
安静持续两秒,下刻掌声如雷鸣,底下坐着人大半都起身激动鼓掌,前排大佬们还算矜持,只含笑鼓掌。
而高通高管、asml高管之流面色难看，僵直不动。
莫伦科夫转头低声询问左手旁asml高管：“他说话是真实吗？蓝河科技是不是能够造出优于asmleuv？”
“蓝河科技与申市微电子科技达成战略合作,共同组装13.5nmeuv，已完成仿真建模初步阶段。同时水木大学朱教授传来双工作台系统核心技术被攻破、南大光电研发arf光刻胶进度飞速，申市和春城光机所直承接国家02专项光学系统……”
“蓝河科技有信心于今年年底完成13.5nm极紫外光刻机工程验收。”盛明安顿顿,环顾演讲厅圈,询问：“有要提问吗？”
——
全场安静,没人提问。
盛明安挑眉，学术圈不是很挑剔吗？
asml高管忧心忡忡：“如果他们攻破13.5nm光源系统技术，优于asmleuv确实……很可能被攻破！”
“！！”莫伦科夫：“技术被封锁华国人怎可能造得出复杂光刻机？”
他紧皱眉头，阴鸷看向台上盛明安：“他是谁？从来没有听说过他——华国人盗窃们技术？！”
asml高管摇头否定：“虽然都是高阶极紫外光刻机,但显然核心技术不样。”
盛明安演讲内容不涉及核心技术，只描述轮廓，可是asml高管已经能从轮廓分别出技术不同。
般来说，有关学术研讨会都会引来大批听起来很像刁难提问,上午主题演讲和前几个专题研讨会后期举手询问人很多，哪怕是某场非常敷衍演讲也有主办方提前安排演员举手提问，以免出现冷场尴尬局面。
怎轮到他，却没人提问？
难道是他承诺年底完成13.5nm光刻机工程验收太夸张，没有人相信？
他平时没这冒进，只是莫伦科夫等人做法太卑鄙让他难得生出怒气，这才抛弃原先保守演讲,进而依靠前世研发组装光刻机知识临时丰富演讲内容、大胆预言年底交出令世人瞩目完美答卷。
但这也不算夸大海口，在盛明安原先计划里，他确实打算年底完成台13.5nm光刻机验收,明年第季度售出可量产高阶euv。
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