[arf光刻胶可用于193纳米光刻，极限应该是7纳米，如果是高阶光刻机，arf光刻胶不可或缺。]
[千言万语汇成
句盛神
爱你（红心）。]
[负责说服攻克9nm光刻技术项目
甘教授，今天被说‘蓝河？没听说过。’，还被问‘这
厉害？那，有谁看得上你们，跟你们达成合作？’，哑口无言。]
[现在，知道怎回答
：）]
以上说话人是林成建，而他这番话启发群里其他人，大伙沉默少许，排队似发同句话[也知道怎做]。
沈问冰：“需要时间考虑。”
盛明安：“您考虑清楚。”他盯着沈问冰眼睛说：“这段时间会留在甬城，您有疑问尽可以找。”
沈问冰点头。
krf技术还未解决就跳到arf不仅难度成倍增加，项目通过率估计也悬。
送走盛明安，沈问冰个人留在办公室里看他留下资料。
”这些龙头老大们落地津市、加入基金会，四舍五入也等同于蓝河科技和它们达成战略性合作。
“们人已经在接触光电所负责9纳米线宽光刻技术甘教授团队，凭借和陈——”盛明安乍然想起没多少人知道陈惊璆是蓝河科技副总，于是改口说：“凭和张教授、申市光机所关系，谈下这份合作不在话下。”
沈问冰这回意动：“又是高阶光刻技术，又是高端光刻胶，你们是想联合国内所有半导体公司和国家研究所共同打造高阶光刻机？那你们蓝河在这里面扮演什角色？别是空手套白狼那套，全国各个科研项目问遍，套齐，造成光刻机，最后变成你们蓝河东西。”
盛明安淡声说：“您放心，蓝河负责最难光源系统。”
沈问冰闻言震，略显犹豫：“asml、尼康和佳能目前同时研发16纳米制程极紫外光刻机，不定会是asml家独大。”
陈惊璆很晚才看到这些消息，他私问盛明安：[谈成？]
盛明安：[没有。]
陈
资料准备齐全，看得出蓝河野心和计划。
盛明安回酒店，在群里发言：[arf光刻胶项目可行。]
平静研发部群聊立即沸腾：[！！立项吗？！]
[盛神超牛逼！]
[国内技术还停在krf光刻胶项目研发中吧？大步跳跃到arf光刻胶没问题吗？]
盛明安：“从第四代arf光刻机诞生，尼康和佳能差距就已经出来。”
第四代光刻机之前，市场属于尼康和佳能，连美国半导体产业都被日本牵制。但自从尼康和佳能拒绝并错过浸润式光刻技术，而阿斯麦尔捡漏并成功逆袭至今，明显差距拉开。
“美帝不会坐视尼康壮大。”
这是实话。
美国早对日本掌握先进高阶光刻机技术不满，以前隐忍不发是无可替代，现在有asml，日本尼康和佳能就可随意踩死，因此这些年不断对日采取芯片关税增加和罚款等政治措施进行打压。
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